محققان مؤسسه فناوری کارلسروهه (KIT) در آلمان با توسعه میکرولنزهای چاپ سه بعدی به پیشرفتی در زمینه مدارهای مجتمع فوتونی (PIC) دست یافته اند. این میکرولنزها که ریز لنزهای متصل به چهره (FaML) نامیده می شوند، راه حلی برای چالش های مقیاس پذیری که سیستم های مبتنی بر PIC با آن مواجه هستند، ارائه می دهند.
PIC ها این پتانسیل را دارند که کاربردهای مختلف را متحول کنند، اما بسته بندی و مونتاژ این مدارها موانع مهمی هستند. رویکرد مرسوم اتصال لب به لب، که در آن وجوه دستگاه در مجاورت نزدیک یا در تماس مستقیم قرار می‌گیرند، نیاز به هم‌ترازی دقیق و تطابق فیلدهای حالت دارد که فرآیند مونتاژ را پیچیده و پرهزینه می‌کند.
با استفاده از لیتوگرافی چند فوتونی، تیم تحقیقاتی KIT قادر به چاپ سه بعدی FaML با دقت بالا بر روی وجوه اجزای نوری شد. این فناوری امکان شکل دادن به پرتوهای ساطع شده را از طریق سطوح انکساری یا بازتابی طراحی شده فراهم می کند و نیاز به تراز فعال را از بین می برد. مفهوم FaML همچنین امکان درج عناصر نوری گسسته را در مسیرهای پرتو بین وجه‌های PIC فراهم می‌کند.
محققان چندین آزمایش را برای تأیید اثربخشی رویکرد خود انجام دادند. آنها در اتصال آرایه‌های فیبر به تراشه‌های فوتونیک سیلیکونی به تلفات درج پایین و تحمل‌های هم‌ترازی دست یافتند.
آنها همچنین رابط های فیبر-تراشه قابل اتصال بدون تماس و انتقال فضای آزاد را با استفاده از تکنیک های بینایی ماشین نشان دادند. علاوه بر این، آنها با موفقیت دستگاه های مسطح را از طریق مسیرهای پرتو غیرمسطح با بازتاب فوق العاده کم به عقب جفت کردند.
استفاده از میکرولنزهای چاپ سه بعدی نشان دهنده پیشرفت قابل توجهی در توسعه PIC است. نیاز به تراز فعال پرهزینه را از بین می برد، فرآیندهای مونتاژ را ساده می کند و مقیاس پذیری را افزایش می دهد.
بیایید و نظرات خود را در فیس بوک به ما بگویید، توییترو صفحات لینکدین، و فراموش نکنید که در خبرنامه هفتگی تولید مواد افزودنی ما ثبت نام کنید تا آخرین داستان ها را مستقیماً در صندوق ورودی خود دریافت کنید.
منبع: https://3dprinting.com/news/karlsruhe-engineers-print-microlenses-for-photonic-circuits/
